ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК ИЗЛУЧЕНИЯ

Описание
Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано, например, в качестве импульсного источника электромагнитного излучения и направленных потоков заряженных частиц. Плазменный источник излучения состоит из источника питания, двух коаксиальных электродов, устройства для напуска газа в область сжатия плазмы, вспомогательного и рабочего газов, причем вспомогательный газ имеет большую молярную массу, чем рабочий газ, и отличается тем, что содержит систему регулировки напуска рабочего газа, состоящую из устройства временной задержки инициации разряда и устройства накачки и контроля давления газа под клапаном устройства для напуска рабочего газа, при этом плазменный источник излучения выполнен с возможностью инициации разряда между электродами во вспомогательном газе; а с помощью системы регулировки напуска рабочего газа формируется неравномерное распределение рабочего газа, напущенного через устройство для напуска, в межэлектродном промежутке устройства. Технический результат - повышение эффективности преобразования изначально вкладываемой в устройство энергии в энергию электромагнитного излучения с сохранением спектральных характеристик излучения устройства. 2 ил.
Тэги
устройство питания области плазмы заряженные частицы регулировка газа вспомогательное устройство энергия давления плазменный поток устройство для преобразования электромагнитный клапан устройство контроля поток плазмы импульсный источник межэлектродный промежуток излучение накачки рабочий клапан клапан регулировки импульсное устройство клапан давления спектральная характеристика вспомогательный электрод источник энергии распределение газов давление газа сжатие газа электромагнитные излучения импульсное давление питание плазменный источник рабочий газ система контроля устройство преобразование энергии источник питания электромагнитная техника системы контроля контроль качества импульсные устройства контроль электроды энергия поток газа помощь давление излучение сжатие разряд электромагнитное излучение плазменная техника источник излучения электромагнитная энергия плазма импульсная техника клапан газ электрод
Дата
2019-06-19
Патентообладатели
"Акционерное общество ""Концерн воздушно-космической обороны ""Алмаз - Антей"" "
Авторы
Друзин Сергей Валентинович , Росляков Игорь Алексеевич , Старцев Сергей Анатольевич , Вихрев Виктор Викторович , Додулад Эмиль Игоревич , Грабовский Евгений Валентинович , Лотоцкий Алексей Павлович
Номер заявки
RU 02710865 C1 20200114
Предметная область
Технологические процессы
Ссылка на ФИПС