СПОСОБ ДОЗИРОВАНИЯ ЖИДКИХ ХИМИЧЕСКИХ РЕАГЕНТОВ В ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ СРЕДЫ И СИСТЕМА ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ
Описание
Группа изобретений относится к области дозированной подачи жидких химических реагентов в технологические потоки и может найти применение при ингибиторной защите от коррозии, парафиноотложения и образования гидратов в технологических системах нефтегазовой и химической промышленности. Способ включает подачу жидкого химического реагента от напорного коллектора к нескольким точкам дозирования. Расчетное рабочее давление в напорном коллекторе поддерживают стабильным и превышающим давление технологической среды. Расход жидкого химического реагента через каждую точку дозирования регулируют чередованием периодов подачи жидкого химического реагента и прекращения его подачи. Ввод жидкого химического реагента осуществляют импульсным дозированием путем чередования по прямоугольному закону импульсов дозирования и периодов отсутствия дозирования непосредственно в точке ввода в технологическую среду. Выбирают величину постоянного (стабильного) давления на входе в точки дозирования, исходя из требуемых параметров факела распыления жидкого химического реагента. Длительность периода отсутствия дозирования жидкого химического реагента принимают, не превышающим продолжительность последействия жидкого химического реагента на технологическую среду. Длительность импульса дозирования выбирают в зависимости от величины требуемой дозировки жидкого химического реагента в технологическую среду и расходной характеристики оборудования точки дозирования. Полный период рабочего импульса, определяемый как сумма продолжительностей импульса дозирования и периода отсутствия дозирования, регулируют в пределах от тысячных долей секунды до сотен секунд. Система включает напорный коллектор, связанный с устройствами, подающими стабилизированное рабочее давление жидкого химического реагента, превышающее давление технологической среды. Система также включает импульсные трубки, подводящие жидкий химический реагент от напорного коллектора к точкам дозирования, запорные клапаны, регулирующие подачу жидкого химического реагента, форсунки, которыми оборудованы точки дозирования реагента, блок управления запорными клапанами. Система снабжена электроуправляемыми форсунками, сопла которых являются седлами быстродействующих электромагнитных запорных клапанов, управляемых электрическими импульсами с блока управления запорными клапанами. Импульсные трубки оборудованы измерителями расхода жидкости. Блок управления запорными клапанами выполнен в виде многоканального частотного генератора прямоугольных электрических импульсов, имеющих постоянную амплитуду напряжения, с независимым регулированием временных параметров: продолжительности прямоугольных электрических импульсов и промежутков между импульсами. Корректировка временных параметров электрических сигналов производится по показаниям измерителей расхода жидкости. Техническим результатом группы изобретений является повышение эффективности воздействия жидкого химического реагента на технологическую среду за счет повышения качества распыления жидкого химического реагента, а также осуществление постоянного контроля и регулирования текущего расхода жидкого химического реагента в каждой точке дозирования. 2 н.п. ф-лы, 2 ил.
Тэги
Дата
2019-05-08
Патентообладатели
Войтех Николай Дмитриевич
Авторы
Войтех Николай Дмитриевич
Номер заявки
RU 02705977 C1 20191112
Предметная область
Технологические процессы
Ссылка на ФИПС